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          光學(xué)薄膜測(cè)量?jī)x的測(cè)量原理和優(yōu)勢(shì)特征詳細(xì)說明

          更新時(shí)間:2022-06-16    點(diǎn)擊次數(shù):892
             光學(xué)薄膜測(cè)量?jī)x是一款利用光譜相干度量學(xué)工作的非接觸型膜厚測(cè)量系統(tǒng)。因其將光源、分光光度計(jì)和數(shù)據(jù)分析單元集成為一個(gè)單元,所以其配置緊湊,僅由一個(gè)主單元和光纖組成。此儀器設(shè)計(jì)緊湊,節(jié)省空間,適合安裝進(jìn)用戶的系統(tǒng)中,可進(jìn)行多種目標(biāo)的測(cè)量。此外,該儀器為無參照物測(cè)量,因此省略了煩人的參照物測(cè)量,可長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定地進(jìn)行高速、高準(zhǔn)確度測(cè)量。
           
            光學(xué)薄膜測(cè)量?jī)x的測(cè)量原理:
            表面輪廓:
            垂直于樣品表面的入射光,經(jīng)過表面反射后形成的反射角,會(huì)因表面輪廓的不同而產(chǎn)生變化。正是依據(jù)測(cè)量點(diǎn)之間反射角的變化,通過軟件重新計(jì)算并構(gòu)建了樣品表面輪廓,實(shí)現(xiàn)了全自動(dòng)高精度的測(cè)量。
           
            薄膜應(yīng)力:
            對(duì)于薄膜、單層或者多層鍍膜的應(yīng)力,軟件主要依據(jù)理論,通過檢測(cè)鍍膜前后,基板曲率半徑的變化量計(jì)算得到。比如在半導(dǎo)體行業(yè)或者其他應(yīng)用領(lǐng)域,當(dāng)反射表面被加工處理后(鍍膜或者去鍍膜),操作人員能夠利用快速地對(duì)晶圓薄膜應(yīng)力進(jìn)行檢測(cè)。
           

          光學(xué)薄膜測(cè)量?jī)x

           

            光學(xué)薄膜測(cè)量?jī)x的優(yōu)勢(shì)特征:
            1、本測(cè)試儀特贈(zèng)設(shè)測(cè)試結(jié)果自動(dòng)分類功能。
           
            2、可定制USB通訊接口,便于其拓展為集成化測(cè)試系統(tǒng)中的測(cè)試模塊。
           
            3、8檔位超寬量程。同行一般為五到六檔位。
           
            4、儀器小型化、手動(dòng)/自動(dòng)一體化。
           
            5、操作簡(jiǎn)便、性能穩(wěn)定,所有參數(shù)設(shè)定、功能轉(zhuǎn)換全部采用數(shù)字化鍵盤輸入,簡(jiǎn)便而且免除模擬定位器的不穩(wěn)定。

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